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製品概要
製品の特徴
分子ビーム蒸発源SOURCE-1250の特徴紹介：
分子ビーム蒸発源は、超高真空中でMBE成長の薄膜を作製するために使用されます；
オープンタイプの蒸発源で、分子ビーム放射時のガス排出をできるだけ減らすように設計されています；
取り付けフランジ：ICF070・114など；
温度制御：PID制御によるMax1250。
製品仕様
分子ビーム蒸発源 SOURCE-1250 の仕様：
(1)坩堝容量：約10cc（リップエッジ約15mm×57mm）；
(2)坩堝材料：PBN；
(3)加熱器：高純度Ta線巻き；
(4)側面反射板：5層高純度Ta；
(5)加熱素子支持ベース：高純度Mo；
(6)熱電対：Pr13；
(7)加熱素子の外形寸法はφ35×50mm；
(8)作業温度範囲：300°C～1250°C；
(9)ブラインドの開閉はマイクロフランジの回転導入機で行う（標準は手動、空気駆動はオプション）；
(10)取り付けフランジ：114CF（4.5インチCF）；
(11)加熱電源：1kW直流電源、電流および電圧制限あり；
(12)温度コントローラー：PID制御方式、RT～1800°C、制御精度最大0.1°C；
(13)最高ベーキング温度：250°C（ケーブルと空気駆動装置を取り外した後）。
製品の利点
適用分野
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電話番号：+00852 61187991
メールアドレス：sales@hapoin.com
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