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多孔質セラミック真空吸盤/搬送盤

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多孔質セラミック真空吸盤/搬送盤


多孔質セラミック真空吸盤/搬送盤
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製品概要

製品の特徴

HAPOIN 微細孔セラミック真空吸盤/載盤概要:

適用シーン:

半導体業界において、ウェーハの薄化、成形、スライス、研磨、洗浄などの過程で、設置および固定される作業台【固定治具】;

高温焼結により材料内部に多数の連結または閉鎖した均一な実体または真空体セラミックを生成し、真空吸引力で半導体チップなどの作業物を固定する;

材料:

作業台面:酸化アルミニウムセラミックで、中空構造を形成し、多孔質基体に負圧をかけて吸着・固定する;

底座および枠:選択可能な材質:アルミ合金、ステンレス、セラミックなど;

利点:

1、高硬度 2、放熱性が良い 3、耐摩耗性 4、耐酸・耐アルカリ、耐腐食性が強く、極めて過酷な環境に適応可能;

製品の基本パラメータ:

微細孔セラミック真空吸盤は平面度、平行度が高く、微細孔の分布が均一で通気性が良く、吸着力が均一で滑らかで繊細;

加工対象:2、3、4、5、6、8、12インチおよび非標準カスタムウェーハなど;

サイズ範囲:85mm-8800mm、微細孔サイズ:20-60μm、気孔率:30-50%;

顧客のニーズに応じて各種非標準吸盤の設計およびカスタマイズが可能。

 

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