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静止型リフロー炉装置

MALCOM

RDT-250II


静止型リフロー炉装置
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製品概要

製品の特徴

RDT-250IIは、省スペースであり、上部ヒーターのゾーン制御機能を備えており、熱分布を調整してPCボード部品の配置に適しています。

製品仕様

対象基板サイズ サイズ:250W×330Lmm以下、または高さ載板棒下限:下5mm 上28mm、上限:下31mm 上2mm
* サイズは基板底部から測定
装置サイズ 778W×863D×1417Hmm(シグナルタワーを含まない)
加熱システム 上部:遠赤外線と熱風の併用
下部:遠赤外線
冷却システム 外部ガス(窒素または空気)導入システム(排気ダンパー連動)、冷却流量制御弁付き
電源 三相、200V、50/60Hz、17.8kW/回路電流:約51A(最大加熱出力)
(熱風加熱器追加装備:23.8kW/回路電流:約68A(最大加熱出力))
外部ガス 0.3~0.5MPa、最大300L/min、圧力補償流量制御弁含む
炉内酸素濃度
(窒素使用時)
最低100ppm
PC基板トレイ ネットワークシステムまたはキャリアシステム(要望に応じて選択可能)
上部加熱 遠赤外線&熱風加熱器:約15kW(500W×30格)
※参照モジュールに対して偏差設定可能。熱風加熱器:2kW×2+1kW×2(オプション)
下部加熱 遠赤外線加熱器:約2.4kW(400W×6)
温度精度 常温~80℃:±3℃
80℃~330℃:±2℃
300℃~400℃:±3℃
測定温度 常温~400℃
測定点番号 6点(自動モード:7点)
窒素供給機能 流量制御弁:200L/min、圧力補償流量制御弁含む
制御 内蔵コンピュータ(専用ソフト含む) プロファイル作成/データ分析:RDT-250ECS 対応OS:Windows10 64ビット、Windows11 64ビット、外部コンピュータ接続必要。
重量 約205kg

製品の利点

適用分野

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